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GB/T 43894.1-2024《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》基本信息
标准号：GB/T 43894.1-2024
中文名称：《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》
发布日期：2024-04-25
实施日期：2024-11-01 即将实施 距离实施日期还有71天
发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位：山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技(集团)股份有限公司
起草人：王玥、朱晓彤、孙燕、宁永铎、徐新华、徐国科、李春阳、张海英、陈海婷、丁雄杰、郭正江
中国标准分类号：H21金属物理性能试验方法
国际标准分类号：77.040金属材料试验
GB/T 43894.1-2024《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》介绍
GB/T 43894.1-2024是中国国家标准的一部分，由国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员会联合发布。标准的发布日期为2024年4月25日，实施日期定于2024年11月1日。
一、标准的适用范围
GB/T 43894.1-2024适用于所有类型的半导体晶片，无论是用于集成电路、光电子器件还是其他半导体产品的生产。标准的实施将有助于提高整个半导体行业的产品质量。
二、主要内容
1、术语和定义
标准首先明确了相关的术语和定义，包括“半导体晶片”、“近边缘”、“几何形态”、“高度径向二阶导数法（ZDD）”等，为后续的技术规范提供了基础。
2、评价方法
标准详细描述了高度径向二阶导数法（ZDD）的操作步骤，包括数据采集、数据处理、结果分析等环节。ZDD方法通过测量晶片表面的高度变化，计算其径向二阶导数，从而评价晶片的几何形态。
3、测量设备和条件
标准规定了进行ZDD评价所需的测量设备和条件，包括测量设备的技术要求、环境条件、测量精度等，确保评价结果的准确性和可重复性。
4、数据处理和结果评定
标准提出了数据处理的方法和结果评定的标准，包括数据的预处理、异常值处理、结果的统计分析等，以及如何根据评价结果对晶片的质量进行分类和判定。
三、实施意义
1、提高产品质量
通过实施GB/T 43894.1-2024标准，可以确保半导体晶片的几何形态评价更加精确和一致，从而提高晶片的整体质量。
2、促进技术创新
标准的实施将推动半导体制造技术的创新和发展，为新型半导体材料和器件的研发提供支持。
3、增强国际竞争力
统一的评价标准有助于提高中国半导体产品在国际市场上的竞争力，促进中国半导体产业的全球化发展。
GB/T 43894.1-2024《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》标准的发布和即将实施，标志着中国半导体行业在标准化道路上迈出了重要一步。该标准的实施将为半导体晶片的质量评价提供科学依据，推动行业的技术进步和健康发展。
