标准详情
“刻蚀机用硅电极及硅环”的标准号是：GB/T 41652-2022
GB/T 41652-2022《刻蚀机用硅电极及硅环》由国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会于2022-07-11发布，并于2023-02-01实施。
该标准的起草单位为有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司；起草人是库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平。
“刻蚀机用硅电极及硅环”介绍
刻蚀机用硅电极及硅环是一种在半导体制造过程中非常重要的材料，它们主要用于等离子体刻蚀工艺中。等离子体刻蚀工艺是一种利用高能等离子体对半导体材料进行精细加工的技术，其中硅电极和硅环起着产生和稳定等离子体的关键作用。硅电极通常位于等离子体刻蚀反应腔的顶部，作为射频电源的负极，通过射频电源激励气体产生高密度的等离子体；而硅环则安装在电极的边缘，有助于均匀分布等离子体并减少边缘效应。
由于硅材料具有良好的热稳定性和化学稳定性，它非常适合用于等离子体环境中。硅电极和硅环能够承受刻蚀过程中产生的高温环境，同时不会与等离子体发生化学反应，避免了杂质的引入。硅材料的绝缘性还帮助维持等离子体的稳定运行，防止电流泄露和能量损耗，这对于提高刻蚀精度和效率至关重要。
刻蚀机用的硅电极及硅环在半导体制造的等离子体刻蚀工艺中发挥着至关重要的作用，它们的物理性质和化学特性保证了半导体器件生产的高精度和高效率，是现代集成电路制造中不可或缺的关键组件。
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