《溅射用钽靶材》执行标准号

“溅射用钽靶材”的标准号是：YS/T 1024-2015

YS/T 1024-2015《溅射用钽靶材》由中华人民共和国工业和信息化部于2015-04-30发布，并于2015-10-01实施。

该标准的起草单位为宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司；起草人是钟景明、李桂鹏、汪凯、李兆博、姚力军、熊晓东、王莉、宿康宁、王小青、杜铁路。

“溅射用钽靶材”介绍

溅射用钽靶材是一种关键材料，在电子、半导体和光学工业中具有重要应用。这种靶材主要用于物理气相沉积（PVD）过程中，尤其是在溅射法中。钽由于其优异的导电性能、高熔点和良好的腐蚀抵抗性而受到青睐。在制造过程中，钽被精心加工成特定形状的靶材，以确保在薄膜沉积过程中均匀释放钽原子，从而获得高质量的镀膜。

钽靶材在多种高科技领域中扮演着不可或缺的角色。它被用来生产各种薄膜，如电容器用的钽氧化物膜，这类薄膜在微电子设备中极为常见，特别是在高性能计算机芯片和手机的制造中。除了电容器之外，钽靶材还被用于制作太阳能电池、防腐蚀层和光学薄膜等。这些应用展示了钽靶材的多样化用途及其对现代技术产业的重要性。

钽靶材的生产是一个精细的过程，需要严格控制杂质含量和微观结构，以保证最终产品的性能。制造商会采用各种方法如热压烧结来生产高密度、低含氧量的钽靶材。为了提高靶材的使用寿命及沉积效率，钽靶材表面常常经过特殊处理，以优化其在溅射过程中的表现。

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